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电源的核心元件的真空镀膜
日期:[2013-04-03 07:16:48] 共阅[925]次
真空镀膜技术就是在电源需制作引线的部位,淀积一层厚度约为0.3毫米的铜膜,引线就焊在这种事先准备好的铜膜上,镀膜方法就是在真空容器里把高纯度的氧化铜在大约900度的高温下加热到气化状态一一蒸发,使铜原子淀积在需要做引线的硅表面上形成一层具有高导电性的薄膜。真空镀膜技术在有的国家也被称为真空蒸发技术。铜膜厚度可通过改变蒸发时间来控制。
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